Esfolio Pure Skin Aloe Essence Mask – 10 arkkia

Esfolio Pure Skin Aloe Essence Mask on korealainen kasvonaamio, joka on kyllästetty aloe vera -uutteella ja hyaluronihapolla ja joka kosteuttaa ja rauhoittaa tehokkaasti herkkää ihoa. Tiiviisti istuva naamio mukautuu kasvojen muotoihin, ja kietoo ihon kasviperäisten ravintoaineiden kerrokseen.

Tietoa tuotteesta

esfolio on eteläkorealainen ihonhoitomerkki, joka valmistaa kasviuutteisiin perustuvia kosmetiikkatuotteita. Pure Skin Aloe Essence Mask on Aloe barbadensis -uutteeseen kastettu kasvonaamio, joka kietoo ihon syvästi kosteuttavan ja ravitsevan kerroksen ympärille.

Naamio mukautuu tiiviisti kasvojen muotoihin, jolloin -uute imeytyy ihoon tehokkaasti. Koostumus on rikastettu hyaluronihapolla (natriumhyaluronaatilla) sekä ginseng- ja portulakkauutteilla, jotka auttavat rauhoittamaan herkkää ihoa.

Tärkeimmät ainesosat

• Aloe vera -uute (Aloe barbadensis) - kosteuttaa ja lievittää ärsytystä
• Hyaluronihappo (Natriumhyaluronaatti) - sitoo kosteutta ihoon ja parantaa kosteustasapainoa
• Ginseng-uute (Panax ginseng) - ravitsee ja elvyttää ihoa
• Portulakkiuute (Portulaca oleracea) - rauhoittaa ja virkistää herkkää ihoa

Kenelle se sopii

Tätä naamaria suositellaan herkälle iholle, joka tarvitsee intensiivistä kosteutusta ja rauhoitusta. Se sopii osaksi päivittäistä ihonhoitorutiinia tai nopeaksi ihonhoitorituaaliksi Ecover raskaan päivän jälkeen.

Käyttöohjeet

1. Puhdista kasvosi ja aseta naamio, kasvojen muotojen mukaan.
2. Anna vaikuttaa 15–20 minuuttia.
3. Poista naamio ja taputtele jäljelle jäänyt essenssi hellästi ihoon, kunnes se on imeytynyt kokonaan.

Ainesosat (INCI)

Vesi, Glyseriini, Denaturoitu alkoholi., Aloe Barbadensis (Aloe vera) Lehtiuute, Portulaca Oleracea (Vihreä portulakka) Uute, Panax Ginseng (Ginseng) Juuriuute, Chaenomeles Sinensis (kiinalainen kvitteni) hedelmäuute, natriumhyaluronaatti, butyleeniglykoli, PEG/PPG-17/6-kopolymeeri, karbomeeri, ksantaanikumi, PEG-60 Hydrattu risiiniöljy, Dinatrium-EDTA, Propyleeniglykoli, Betaiini, Etyyliheksyyliglyseroli, Trietanoliamiini, Fenoksietanoli, Metyyliparabeeni, Hajuste.